泰思肯TESACN MIRA3 高分辨場發(fā)射掃描電子顯微鏡

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電議

型號
MIRA3 高分辨場發(fā)射掃描電子顯微鏡

品牌

所在地
深圳市

更新時間
2023-06-19 18:39:01

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    *一代的TESCAN MIRA場發(fā)射描電鏡給用戶帶來了*的技術(shù)優(yōu)點(diǎn)(如改進(jìn)的高性能電子設(shè)備使成像過程更快,快速掃描系統(tǒng)包括了動態(tài)與靜態(tài)圖像扭曲補(bǔ)償,有內(nèi)置的編程軟件等),同時保持著*的。MIRA3的設(shè)計(jì)適用于各種各樣的SEM應(yīng)用及當(dāng)今研究和產(chǎn)業(yè)的需求。大電子束流下的高分辨率有利于分析應(yīng)用,例如: EBSD、WDX等分析。MIRA3場發(fā)射掃描電鏡可配置LM、XM或GM三種樣品室。所有的MIRA樣品室(LM、XM或GM)提供*的5軸馬達(dá)驅(qū)動全計(jì)算機(jī)化優(yōu)中心樣品臺,完善的幾何設(shè)計(jì)更適合安裝能譜儀(EDS),波譜儀(WDX),電子背散射衍射(EBSD)。XM和GM樣品室適用于大樣品的分析。

    現(xiàn)代電子光路;高亮度肖特基電子槍可獲得 高分辨率/高電流/低噪音圖像的三透鏡大視野觀察(Wide Field OpticsM)設(shè)計(jì)提供了多種工作與顯示模式的中間鏡的作用就如同軟件“光闌轉(zhuǎn)換器”,它以電磁方式有效地改變物鏡光闌結(jié)合了完善的電子光學(xué)設(shè)計(jì)軟件的實(shí)時電子束追蹤(In-Flight Beam Tracing"),可模擬和優(yōu)化電子束可選的In-Beam探頭可獲得特高分辨率圖像電鏡的全自動設(shè)置成像速度快使用3維電子束技術(shù),實(shí)時得到立體圖像,三維導(dǎo)航維修簡單;現(xiàn)在保持電鏡處在*的狀態(tài)很簡單,只需要很短的停機(jī)時間。每個細(xì)節(jié)設(shè)計(jì)得很仔細(xì),使得儀器的效率*化,操作*簡化。自動操作;設(shè)備的特點(diǎn)包括了自動設(shè)置和眾多自動操作。除此之外,電鏡還有樣品臺自動導(dǎo)航與自動分析程序,能明顯減少操作員的操作時間。通過內(nèi)置腳本語言(Python) 可進(jìn)入軟件的大多數(shù)功能,包括顯微鏡的控制、樣品臺的控制、圖像采集、處理與分析。通過腳本語言用戶還可以編程其自己的自動操作程序。用戶界面友好的軟件與軟件工具;多語言操作界面.多用戶界面(包括了EasySEMTM模式)不同賬戶的權(quán)利使常規(guī)分析過程更快圖片管理,報告生成內(nèi)置的系統(tǒng)檢查與系統(tǒng)診斷網(wǎng)絡(luò)操作與遠(yuǎn)程進(jìn)入/診斷模塊化軟件體系結(jié)構(gòu)標(biāo)準(zhǔn)軟件包括了測量、圖像處理、對象區(qū)域,等模塊可選的軟件和包括顆粒度分析標(biāo)準(zhǔn)版/*版、3維表面重建,等模塊MIRA3 GM;MIRA3 GM是-款完全由計(jì)算機(jī)控制的場發(fā)射掃描電子顯微鏡,可在高真空和低真空模式下操作,具有突出的光學(xué)性能,清晰的數(shù)字化圖像,成熟、用戶界面友好的操作軟件等特點(diǎn)。基于Windows"平臺的操作軟件提供了簡易的電鏡操作和圖像采集,可以保存標(biāo)準(zhǔn)文件格式的圖片,可以對圖像進(jìn)行管理、處理和測量,實(shí)現(xiàn)了電鏡的自動設(shè)置和許多其它自動操作。MIRA3 XM;MIRA3 XM是一款完全由計(jì)算機(jī)控制的場發(fā)射描電子顯微鏡,可在高真空和低真空模式下操作,其其具有突出的光學(xué)性能,清晰的數(shù)字化圖像,成熟、用戶界面友好的操作軟件等特點(diǎn)?;赪indowsTM平臺的操作軟件提供了簡易的電鏡操作和圖像采集,可以保存標(biāo)準(zhǔn)文件格式的圖片,可以對圖像進(jìn)行管理、處理和測量,實(shí)現(xiàn)了電鏡的自動設(shè)置和許多其它自動操作。MIRA3 LM;MIRA3 LM是一款完全由計(jì) 算機(jī)控制的場發(fā)射掃描電子顯微鏡,可在高真空和低真空模式下操作,其具有突出的光學(xué)性能,清晰的數(shù)字化圖像,成熟、用戶界面友好的操作軟件等特點(diǎn)?;赪indowsM平臺的操作軟件提供了簡易的電鏡操作和圖像采集,可以保存標(biāo)準(zhǔn)文件格式的圖片,可以對圖像進(jìn)行管理、處理和測量,實(shí)現(xiàn)了電鏡的自動設(shè)置和許多其它自動操作。

    技術(shù)參數(shù):


    電子槍:

    高亮度肖特基

    分辨率:

    高真空模式(二次電子)

    1.2nm@30kV

    1.5nm@ 15kV

    2.5nm@3kV

    放大倍數(shù):

    1x-1,000,000x(在連續(xù)大視野/分辨率模式下5"圖像寬度)

    加速電壓:

    200V-30Kv

    探針電流: 

    2pA-2μA

    探測器:

    二次電子探測器-ET型二次電子探測器(YAG 晶體)

    掃描特征:

    點(diǎn)&線掃描

    樣品室真空:

    高真空模式: <9x10-3Pa

    電子槍真空:

    <3x10-7Pa

    更換樣品后抽真空時間:

    <3.5分鐘

    樣品臺:

    五軸樣品臺,X,Y,Z,R,T

    可選機(jī)型:

    LM/XM/GM



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