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電化學(xué)工作站 型號(hào)KM1-CS2350H

發(fā)布時(shí)間:2024/12/24 09:17:19 發(fā)布廠商:東方化玻(北京)科技有限公司 >> 進(jìn)入該公司展臺(tái)
電化學(xué)工作站?型號(hào):KM1-CS2350H

庫號(hào):D402602??


主要功能:
交流阻抗測(cè)試,恒電流充放電測(cè)試,旋轉(zhuǎn)圓盤圓環(huán)電極測(cè)試,氫原子擴(kuò)散系數(shù)測(cè)量,雙通道能同時(shí)測(cè)量開路電位,循環(huán)伏安方法
具體應(yīng)用于:1)研究電化學(xué)機(jī)理;物質(zhì)的定性定量分析;2)常規(guī)電化學(xué)測(cè)試,包括電合成、電沉積(電鍍)性能評(píng)價(jià);3)功能和能源材料(各類型電池、電容器、納米材料、生物傳感器等)的機(jī)理和制備研究;4)緩蝕劑、水質(zhì)穩(wěn)定劑、涂層以及陰極保護(hù)效率快速評(píng)價(jià)以及氫滲測(cè)試等;5)金屬材料在導(dǎo)電性介質(zhì)(包括水/土壤/混凝土等環(huán)境)中的腐蝕電化學(xué)測(cè)試。
主要指標(biāo):
硬件參數(shù)指標(biāo)
*雙恒電位儀:單恒電位電位控制范圍:±10V
*雙恒電位儀電位控制范圍:±10V
*恒電流控制范圍:±2.0A
電位控制精度:0.1%×滿量程讀數(shù)±1mV
電流控制精度:0.1%×滿量程讀數(shù)
電位靈敏度:10μV(>100Hz), 3μV(<10Hz)
電流靈敏度:<10pA
電位上升時(shí)間:<1S(<10mA),<10S(<2A)
*電流量程:2A~2nA, 共10檔
輸入阻抗:1012Ω||20pF
大輸出電流:2.0A
*槽壓輸出:±21V
電流掃描增量:1mA @1A/mS
CV和LSV掃描速度:0.001mV~10000V/s
電位掃描電位增量:0.076mV @1V/mS
CA和CC脈沖寬度:0.0001~65000s
DPV和NPV脈沖寬度:0.0001~1000s
SWV頻率:0.001~100KHz
CV的小電位增量:0.075mV
AD數(shù)據(jù)采集:16bit@1MHz,20bit @1kHz
電流與電位量程:自動(dòng)設(shè)置
DA分辨率:16bit,建立時(shí)間:1μS
低通濾波器 :8段可編程
通訊接口:網(wǎng)口
2、電化學(xué)阻抗功能指標(biāo)
信號(hào)發(fā)生器
*頻率響應(yīng):10μHz~1MHz
*交流信號(hào)幅值:1mV~2500mV
*頻率度:0.005%
*信號(hào)分辨率:0.1mV RMS
直流偏壓:-10V~+10V
DDS輸出阻抗:50Ω
波形:正弦波,三角波,方波
正弦波失真率:<1%
掃描方式:對(duì)數(shù)/線性,增加/下降
信號(hào)分析器
大積分時(shí)間:106個(gè)循環(huán)或者105S
測(cè)量時(shí)間延遲:0~105秒
小積分時(shí)間:10mS 或者一個(gè)循環(huán)的長時(shí)間
直流偏置補(bǔ)償
電位補(bǔ)償范圍:-10V~+10V
電流補(bǔ)償范圍:-1A~+1A
帶寬調(diào)整:自動(dòng)或手動(dòng)設(shè)置, 共8級(jí)可調(diào)3、測(cè)量功能方法
3、測(cè)量與控制軟件主要功能
開路電位測(cè)量(OCP)、*恒電位極化(i-t曲線)、*恒電流極化、動(dòng)電位掃描(TAFEL曲線)、動(dòng)電流掃描(DGP)、任意恒電位階梯波、任意恒電流階梯波、恒電位階躍(VSTEP)、恒電流階躍(ISTEP)、計(jì)時(shí)電位法(CP)、計(jì)時(shí)電流法(CA)、計(jì)時(shí)電量法(CC)、線性掃描伏安法(LSV)、線性循環(huán)伏安法(CV)、階梯循環(huán)伏安法(SCV)、差分脈沖伏安法(DPV)、常規(guī)脈沖伏安法(NPV)、方波伏安法(SWV)、交流伏安法(ACV)、常規(guī)差分脈沖伏安法(DNPV)、二次諧波交流伏安(SHACV)、恒電位溶出伏安、線性溶出伏安、階梯溶出伏安、方波溶出伏安、*電化學(xué)阻抗(EIS)~頻率掃描、*電化學(xué)阻抗(EIS)~時(shí)間掃描、*電化學(xué)阻抗(EIS)~電位掃描、循環(huán)極化曲線(CPP)、線性極化曲線(LPR)、電化學(xué)噪聲(EN)、電偶腐蝕測(cè)量(ZRA)、*氫擴(kuò)散測(cè)試(HDT)、動(dòng)電位再活化法(EPR晶間腐蝕測(cè)量)、*電池充放電測(cè)試、*恒電流充放電、盤環(huán)電極測(cè)試、數(shù)字記錄儀、波形發(fā)生器、圓盤電機(jī)控制。



主要功能:
交流阻抗測(cè)試,恒電流充放電測(cè)試,旋轉(zhuǎn)圓盤圓環(huán)電極測(cè)試,氫原子擴(kuò)散系數(shù)測(cè)量,雙通道能同時(shí)測(cè)量開路電位,循環(huán)伏安方法
具體應(yīng)用于:1)研究電化學(xué)機(jī)理;物質(zhì)的定性定量分析;2)常規(guī)電化學(xué)測(cè)試,包括電合成、電沉積(電鍍)性能評(píng)價(jià);3)功能和能源材料(各類型電池、電容器、納米材料、生物傳感器等)的機(jī)理和制備研究;4)緩蝕劑、水質(zhì)穩(wěn)定劑、涂層以及陰極保護(hù)效率快速評(píng)價(jià)以及氫滲測(cè)試等;5)金屬材料在導(dǎo)電性介質(zhì)(包括水/土壤/混凝土等環(huán)境)中的腐蝕電化學(xué)測(cè)試。
主要指標(biāo):
硬件參數(shù)指標(biāo)
*雙恒電位儀:單恒電位電位控制范圍:±10V
*雙恒電位儀電位控制范圍:±10V
*恒電流控制范圍:±2.0A
電位控制精度:0.1%×滿量程讀數(shù)±1mV
電流控制精度:0.1%×滿量程讀數(shù)
電位靈敏度:10μV(>100Hz), 3μV(<10Hz)
電流靈敏度:<10pA
電位上升時(shí)間:<1S(<10mA),<10S(<2A)
*電流量程:2A~2nA, 共10檔
輸入阻抗:1012Ω||20pF
大輸出電流:2.0A
*槽壓輸出:±21V
電流掃描增量:1mA @1A/mS
CV和LSV掃描速度:0.001mV~10000V/s
電位掃描電位增量:0.076mV @1V/mS
CA和CC脈沖寬度:0.0001~65000s
DPV和NPV脈沖寬度:0.0001~1000s
SWV頻率:0.001~100KHz
CV的小電位增量:0.075mV
AD數(shù)據(jù)采集:16bit@1MHz,20bit @1kHz
電流與電位量程:自動(dòng)設(shè)置
DA分辨率:16bit,建立時(shí)間:1μS
低通濾波器 :8段可編程
通訊接口:網(wǎng)口
2、電化學(xué)阻抗功能指標(biāo)
信號(hào)發(fā)生器
*頻率響應(yīng):10μHz~1MHz
*交流信號(hào)幅值:1mV~2500mV
*頻率度:0.005%
*信號(hào)分辨率:0.1mV RMS
直流偏壓:-10V~+10V
DDS輸出阻抗:50Ω
波形:正弦波,三角波,方波
正弦波失真率:<1%
掃描方式:對(duì)數(shù)/線性,增加/下降
信號(hào)分析器
大積分時(shí)間:106個(gè)循環(huán)或者105S
測(cè)量時(shí)間延遲:0~105秒
小積分時(shí)間:10mS 或者一個(gè)循環(huán)的長時(shí)間
直流偏置補(bǔ)償
電位補(bǔ)償范圍:-10V~+10V
電流補(bǔ)償范圍:-1A~+1A
帶寬調(diào)整:自動(dòng)或手動(dòng)設(shè)置, 共8級(jí)可調(diào)3、測(cè)量功能方法
3、測(cè)量與控制軟件主要功能
開路電位測(cè)量(OCP)、*恒電位極化(i-t曲線)、*恒電流極化、動(dòng)電位掃描(TAFEL曲線)、動(dòng)電流掃描(DGP)、任意恒電位階梯波、任意恒電流階梯波、恒電位階躍(VSTEP)、恒電流階躍(ISTEP)、計(jì)時(shí)電位法(CP)、計(jì)時(shí)電流法(CA)、計(jì)時(shí)電量法(CC)、線性掃描伏安法(LSV)、線性循環(huán)伏安法(CV)、階梯循環(huán)伏安法(SCV)、差分脈沖伏安法(DPV)、常規(guī)脈沖伏安法(NPV)、方波伏安法(SWV)、交流伏安法(ACV)、常規(guī)差分脈沖伏安法(DNPV)、二次諧波交流伏安(SHACV)、恒電位溶出伏安、線性溶出伏安、階梯溶出伏安、方波溶出伏安、*電化學(xué)阻抗(EIS)~頻率掃描、*電化學(xué)阻抗(EIS)~時(shí)間掃描、*電化學(xué)阻抗(EIS)~電位掃描、循環(huán)極化曲線(CPP)、線性極化曲線(LPR)、電化學(xué)噪聲(EN)、電偶腐蝕測(cè)量(ZRA)、*氫擴(kuò)散測(cè)試(HDT)、動(dòng)電位再活化法(EPR晶間腐蝕測(cè)量)、*電池充放電測(cè)試、*恒電流充放電、盤環(huán)電極測(cè)試、數(shù)字記錄儀、波形發(fā)生器、圓盤電機(jī)控制。



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