光發(fā)射顯微鏡EMMI微光顯微鏡漏電定位

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p-100

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更新時間
2020-03-06 13:37:06

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    ????? 針對漏電失效模式,必不可少的分析工具。器件在設(shè)計、生產(chǎn)制造過程中有絕緣缺陷,或者期間經(jīng)過外界靜電擊穿,均會造成器件漏電失效。漏電失效模式的器件在通電得狀態(tài)下,內(nèi)部形成流動電流,漏電位置的電子會發(fā)生遷移,形成電能向光能的轉(zhuǎn)化,即電能以光能的方式釋放,通過紅外顯微鏡探測到這些釋放出來的紅外線,從而的定位到器件的漏電點。
          光發(fā)射顯微鏡是器件分析過程中針對漏電失效模式,必不可少的分析工具。器件在設(shè)計、生產(chǎn)制造過程中有絕緣缺陷,或者期間經(jīng)過外界靜電擊穿,均會造成器件漏電失效。漏電失效模式的器件在通電得狀態(tài)下,內(nèi)部形成流動電流,漏電位置的電子會發(fā)生遷移,形成電能向光能的轉(zhuǎn)化,即電能以光能的方式釋放,從而形成200nm~1700nm紅外線。光發(fā)射顯微鏡主要利用紅外線偵測器,通過紅外顯微鏡探測到這些釋放出來的紅外線,從而的定位到器件的漏電點。
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